[发明专利]一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法在审
| 申请号： | 201811339537.5 | 申请日： | 2018-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN109508494A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 马涛;马海南;于士涛;白丽双 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天软件有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 王金双 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法，包括以下步骤：1）调用cell，计算各mask的重复曝光区和位于重复曝光区内的图形以及位于非重复曝光区内的图形；2）计算所有mask在重复曝光区内的图形经过曝光后的结果；3）合并mask位于非重复曝光区内的结果和重复曝光区内的结果。本发明解决自动曝光模拟过程中计算速度慢和结果文件大的两个问题，从而加快“设计/修改‑曝光模拟‑分析”的循环，提升效率。 | ||
| 搜索关键词： | 重复曝光 曝光 版图设计 非重复 结果文件 模拟过程 自动曝光 调用 合并 分析 | ||
【主权项】：
1.一种面板版图设计中加速曝光模拟的方法，其特征在于，包括以下步骤：1）调用cell，计算各mask的重复曝光区和位于重复曝光区内的图形以及位于非重复曝光区内的图形；2）计算所有mask在重复曝光区内的图形经过曝光后的结果；3）合并mask位于非重复曝光区内的结果和重复曝光区内的结果。
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