[发明专利]原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置

摘要

本发明公开了一种原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置，包括箱体，箱体内依次设置有第一区域、第二区域和第三区域，第一区域内设置有放卷辊、第一过渡辊、第一进气系统和第一加热器，第二区域内设置有第二进气系统，第三区域内设置有收卷辊、第二过渡辊、第三进气系统和第二加热器，放卷辊和收卷辊分别用以放卷和收卷基带，第一过渡辊和第二过渡辊用以对基带的变向位置进行支撑，第一进气系统、第二进气系统和第三进气系统均包括伸入箱体内的匀气管，第一区域、第二区域和第三区域的箱体上均设置有出气口。本发明通过设置匀气管，可使气体在通入箱体内时均匀分布，以提高反应效率，使原子层沉积更均匀。

主权项

1.一种原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置，其特征在于，包括箱体，所述箱体内依次设置有第一区域、第二区域和第三区域，所述第二区域分别通过隔离板与所述第一区域和所述第三区域分隔，所述隔离板上设置有供基带穿过的通孔，所述第一区域内设置有放卷辊、第一过渡辊、第一进气系统和第一加热器，所述第二区域内设置有第二进气系统，所述第三区域内设置有收卷辊、第二过渡辊、第三进气系统和第二加热器，所述放卷辊和所述收卷辊分别用以放卷和收卷基带，所述第一过渡辊和所述第二过渡辊用以对基带的变向位置进行支撑，所述第一进气系统、所述第二进气系统和所述第三进气系统均包括伸入所述箱体内的匀气管，所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述箱体上均设置有出气口。