[发明专利]一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置有效
申请号: | 201811348200.0 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN109536895B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 康翠萍 | 申请(专利权)人: | 宝鸡文理学院 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/54;B82Y40/00 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 李振瑞 |
地址: | 721016*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了纳米材料镀膜装置技术领域的一种基片强适应性纳米材料均匀成膜方法包括添加溶液、基片装夹、蒸发镀膜、预抽真空和循环操作,该基片强适应性纳米材料均匀成膜装置,包括第一真空室和第二真空室,所述第二真空室焊接于第一真空室的右侧,所述第一真空室的内腔右侧顶部和第二真空室的内腔左侧顶部均安装有电动推杆,该基片强适应性纳米材料均匀成膜方法及其装置,通过设置有两个真空室,在对其中一个真空室内的基片进行成膜时,对另一个真空室进行基片装夹和预抽真空的操作,减少了基片成膜时抽真空的等待时间,可实现连续作业,提高了成膜效率,此外还对蒸发镀膜的流量进行精确控制,其基片上纳米材料的成膜更加均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 基片强 适应性 纳米 材料 均匀 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基片强适应性纳米材料均匀成膜装置,包括第一真空室(1)和第二真空室(2),所述第二真空室(2)焊接于第一真空室(1)的右侧,其特征在于:所述第一真空室(1)的内腔右侧顶部和第二真空室(2)的内腔左侧顶部均安装有电动推杆(3),所述电动推杆(3)的外侧推杆连接有夹具(4),所述第一真空室(1)的左侧顶部和第二真空室(2)的右侧顶部均安装有电动蝶阀(5),所述第一真空室(1)的左侧底部和第二真空室(2)的右侧底部均焊接有支撑架(6),所述第一真空室(1)的底部左侧和第二真空室(2)的底部右侧均通过螺栓安装有真空泵(8),所述第一真空室(1)和第二真空室(2)的底部均连接有气管(7),且气管(7)的另一端与真空泵(8)连接,两个所述支撑架(6)之间焊接有横架(9),所述横架(9)的顶部安装有蒸发装置(10),所述蒸发装置(10)的顶部左右两侧均连接有金属管(11),所述金属管(11)的中间位置安装有定量控制阀(12),两个所述金属管(11)的顶端分别与第一真空室(1)和第二真空室(2)连接。
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