[发明专利]适于工业化大规模生产的ATO陶瓷溅射靶材及制备方法在审
| 申请号： | 201811348353.5 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109320233A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 孔伟华 | 申请（专利权）人： | 江苏迪丞光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/457 | 分类号： | C04B35/457 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 221300 江苏省徐州市邳*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明属于新材料领域，具体涉及一种ATO陶瓷溅射靶材的制备方法，包括：包括：制备预混液；通过预混液制备浆料；通过浆料制备水基悬浮溶液；通过水基悬浮溶液制备陶瓷坯体；以及通过陶瓷坯体制备ATO陶瓷溅射靶材。具有制备工艺简单，对设备性能要求低，适于工业化规模生产的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 陶瓷溅射靶材 悬浮溶液 预混液 工业化规模 新材料领域 浆料制备 陶瓷坯体 性能要求 制备工艺 制备浆料 对设备 陶瓷坯 生产 | ||
【主权项】：
1.一种ATO陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，包括：制备预混液；通过预混液制备浆料；通过浆料制备水基悬浮溶液；通过水基悬浮溶液制备陶瓷坯体；以及通过陶瓷坯体制备ATO陶瓷溅射靶材。
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