[发明专利]一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法有效
申请号: | 201811348566.8 | 申请日: | 2018-11-13 |
公开(公告)号: | CN109670200B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 高亮;许洁;高杰;李好;肖蜜;李培根 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 梁鹏;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于结构优化技术领域,并公开了一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法。包括:(a)给定设计域作为待优化对象,构建与设计域对应的NURBS曲面;(b)计算NURBS曲面的等几何材料密度分布场,建立设计域的结构优化设计模型,使设计域在体积减小的同时仍满足结构刚度性能达到需求,定义设计模型获得设计域中各控制顶点对应的密度;(c)建立优化准则更新上述密度并使其收敛,由此获得所需的所述设计域中每个点对应的密度,从而实现等几何材料密度场结构拓扑优化。通过本发明,有效地实现结构优化设计,消除拓扑优化设计中常见的棋盘格问题、网格依赖和孤岛现象等数值不稳定问题,使拓扑优化的结构更加光滑,提高优化求解效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 几何 材料 密度 结构 拓扑 优化 方法 | ||
【主权项】:
1.一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:(a)给定一个设计域并将该设计域作为结构待优化的对象,设定所述设计域上承受的载荷和边界条件,根据所述设计域选择相应的NURBS基函数和控制顶点,以此构建与所述设计域对应的NURBS曲面;(b)计算所述NURBS曲面的等几何材料密度分布场,利用该密度场分布建立所述设计域的结构优化设计模型,使得所述设计域在体积减小的同时刚度最大,计算所述设计模型以此获得所述设计域中各点对应的密度;(c)建立优化准则更新步骤(b)中计算获得的所述密度,判断更新后的所述密度是否满足预设收敛条件,若不满足,返回步骤(b),直至满足所述收敛条件,由此获得所需的所述设计域中每个点对应的密度,从而实现等几何材料密度场结构拓扑优化。
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