[发明专利]一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法有效

专利信息
申请号: 201811348566.8 申请日: 2018-11-13
公开(公告)号: CN109670200B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 高亮;许洁;高杰;李好;肖蜜;李培根 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 梁鹏;曹葆青
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于结构优化技术领域,并公开了一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法。包括:(a)给定设计域作为待优化对象,构建与设计域对应的NURBS曲面;(b)计算NURBS曲面的等几何材料密度分布场,建立设计域的结构优化设计模型,使设计域在体积减小的同时仍满足结构刚度性能达到需求,定义设计模型获得设计域中各控制顶点对应的密度;(c)建立优化准则更新上述密度并使其收敛,由此获得所需的所述设计域中每个点对应的密度,从而实现等几何材料密度场结构拓扑优化。通过本发明,有效地实现结构优化设计,消除拓扑优化设计中常见的棋盘格问题、网格依赖和孤岛现象等数值不稳定问题,使拓扑优化的结构更加光滑,提高优化求解效率。
搜索关键词: 一种 几何 材料 密度 结构 拓扑 优化 方法
【主权项】:
1.一种等几何材料密度场结构拓扑优化方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:(a)给定一个设计域并将该设计域作为结构待优化的对象,设定所述设计域上承受的载荷和边界条件,根据所述设计域选择相应的NURBS基函数和控制顶点,以此构建与所述设计域对应的NURBS曲面;(b)计算所述NURBS曲面的等几何材料密度分布场,利用该密度场分布建立所述设计域的结构优化设计模型,使得所述设计域在体积减小的同时刚度最大,计算所述设计模型以此获得所述设计域中各点对应的密度;(c)建立优化准则更新步骤(b)中计算获得的所述密度,判断更新后的所述密度是否满足预设收敛条件,若不满足,返回步骤(b),直至满足所述收敛条件,由此获得所需的所述设计域中每个点对应的密度,从而实现等几何材料密度场结构拓扑优化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811348566.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top