[发明专利]离子镀Ni-P纳米叠层膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201811350305.X | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN109457220B | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | 于志明;吴建勇 | 申请（专利权）人： | 台州中科普尔尼镀膜技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/32;C23C14/58 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 317515 浙江省台州市温岭市石*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明申请公开了一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜，所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。上述纳米叠层Ni‑P膜的微观结构更为致密，显著提高镀膜的耐磨性能和耐腐蚀性能。本发明申请还公开了上述离子镀Ni‑P纳米叠层膜的制备方法，采用离子镀膜技术沉积无需使用任何化学镀液，也不会产生废液，绿色环保。 | ||
| 搜索关键词： | 离子镀 ni 纳米 叠层膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种离子镀Ni‑P纳米叠层膜，其特征在于，它是以黑色金属为基底材料，利用离子镀膜技术沉积获得的呈层状结构的纳米叠层Ni‑P膜，所述纳米叠层Ni‑P膜的总厚度在2～80μm范围内可调，所述纳米叠层Ni‑P膜的自腐蚀电位≥‑230mV。
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