[发明专利]用于卷对卷沉积的滚筒、卷对卷沉积设备以及膜卷在审
申请号: | 201811360866.8 | 申请日: | 2018-11-15 |
公开(公告)号: | CN109943830A | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 鞠允镐;金南国;陆昇炫;崔诚祐;李焕建 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 李琳;陈英俊 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本文公开了一种用于卷对卷沉积的滚筒,其围绕纵轴旋转。滚筒的横向截面是圆形的并且具有如下的形状:相对的纵向边缘部分分别具有比纵向中央部分窄的宽度。通过使用根据本公开的实施例的用于卷对卷沉积的滚筒,可以在执行卷对卷沉积工艺时消除在柔性基板上发生的褶皱。因此,可以制造具有拥有优异的横向厚度均匀性的沉积层的膜卷。 | ||
搜索关键词: | 卷对卷 滚筒 沉积 膜卷 褶皱 厚度均匀性 沉积设备 横向截面 柔性基板 纵向边缘 纵向中央 纵轴旋转 沉积层 制造 | ||
【主权项】:
1.一种滚筒,所述滚筒用于卷对卷沉积,所述滚筒绕纵轴旋转,所述滚筒的横向截面是圆形的,并且具有如下的形状:相对的纵向边缘部分分别具有比纵向中央部分小的宽度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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