[发明专利]曝光光角量测设备有效
| 申请号： | 201811364869.9 | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN111198093B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 张永裕;陈明宗 | 申请（专利权）人： | 志圣工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超;田喜庆 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光光角量测设备，包含光学头与位于光学头一侧的检测模块。光学头包含不透光薄膜及设置于不透光薄膜的透光基层，并且不透光薄膜形成有由贯穿状的多个次波长环孔。光学头能供一基准入射光穿过透光基层及多个次波长环孔，以通过贝索聚焦方式于检测模块上形成有多个基准聚焦点。当一曝光设备所发出的一入射光穿过光学头，以通过贝索聚焦方式于检测模块上形成有多个聚焦点时，检测模块能够依据多个聚焦点分别相对于多个基准聚焦点之间的位移距离，量测出入射光相对于基准入射光的一光角。据此，所述曝光光角量测设备通过设有相互搭配运作的光学头与检测模块，以使光角的量测精准度能够符合曝光领域中的曝光光角的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 光角量测 设备 | ||
【主权项】：
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