[发明专利]光学感测结构及其形成方法有效
| 申请号： | 201811366062.9 | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN111199167B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 李新辉;曾汉良;林学荣 | 申请（专利权）人： | 世界先进积体电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G06V40/13 | 分类号： | G06V40/13;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;任默闻 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光学感测结构。此光学感测结构包括位于基板中的感测像素阵列，其中上述感测像素阵列包括多个感测像素、位于基板之上的光准直层、以及至少一导通孔，上述至少一导通孔由上述基板的第一表面延伸至相对的第二表面，其中上述至少一导通孔位于上述感测像素阵列中，且不与上述感测像素垂直重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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