[发明专利]一种红光LED外延结构及制作方法有效

专利信息
申请号: 201811390736.9 申请日: 2018-11-21
公开(公告)号: CN109524518B 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 田宇;韩效亚;吴真龙;杜石磊 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 225101 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种红光LED外延结构及制作方法,该红光LED外延结构通过设置存储层,使电洞集聚与此,随着电洞的不断增加,以及存储层本身可产生大量的电洞,从第一GaP层和第二GaP层跃迁过来的电洞拥有更高的电洞势能,电洞之间的碰撞,会产生更多的电洞跃迁至MWQ多量子阱层,即有源区,从而提供更高的电子与空穴对,进而提高内量子效率,同时生长第一InGaP层和第二InGaP层可以通过低温生长出更高的掺杂,通过第一GaP层和第二GaP层降低在高温生长过程中对In的影响,可以提供更高的电洞。
搜索关键词: 一种 红光 led 外延 结构 制作方法
【主权项】:
1.一种红光LED外延结构,其特征在于,所述红光LED外延结构包括:衬底;在所述衬底上以第一方向依次设置的缓冲层、N型DBR反射镜层、N型限制层、第一波导层、MQW多量子阱层、第二波导层、P型限制层和欧姆接触层,所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述缓冲层;设置在所述P型限制层和所述欧姆接触层之间的存储层,所述存储层包括在所述第一方向上依次设置的(AlxGa1‑x)yIn1‑yP层、第一InGaP层、第二InGaP层、第一GaP层和第二GaP层,其中,0<x<0.9,0<y<1。
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