[发明专利]一种低成本黑硅太阳能电池制作方法在审

专利信息
申请号: 201811404274.1 申请日: 2018-11-23
公开(公告)号: CN109360869A 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 张敬敬;马建峰;葛祖荣 申请(专利权)人: 浙江昱辉阳光能源江苏有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0216;H01L31/068
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 任立
地址: 214203 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种低成本黑硅太阳能电池制作方法,涉及晶硅太阳能电池生产,包括:对硅片进行表面清洗和湿法制绒;利用硼源,对硅片进行高温掺杂,制作P‑N结;在酸溶液、碱溶液中去除硅片表面的硅硼玻璃,以及蚀刻去边;在硅片正面使用ALD沉积法沉积Al2O3层,实现黑硅的上表面钝化;在Al2O3层上使用PECVD沉积法沉积SiNX减反射层;在硅片的背面沉积SiO2和SiNx叠层钝化层,实现黑硅的背表面钝化;在硅片背面钝化层上进行激光开槽;丝网印刷导电Ag浆和Al浆,制作金属电极;高温烧结,形成黑硅太阳能电池。本发明解决了减反效果与其带来的表面钝化问题之间的矛盾,适合产业化。
搜索关键词: 黑硅太阳能电池 硅片 沉积 制作 低成本 钝化层 钝化 黑硅 晶硅太阳能电池 蚀刻 表面钝化 表面清洗 高温掺杂 高温烧结 硅硼玻璃 硅片背面 硅片表面 硅片正面 激光开槽 减反射层 金属电极 湿法制绒 丝网印刷 背表面 产业化 沉积法 反效果 碱溶液 上表面 酸溶液 导电 叠层 硼源 去边 去除 背面 矛盾 生产
【主权项】:
1.一种低成本黑硅太阳能电池制作方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、采用的衬底为N型掺镓硅基材,对硅片进行表面清洗和湿法制绒;S2、利用硼源,对硅片进行高温掺杂,制作P‑N结;S3、在酸溶液、碱溶液中去除硅片表面的硅硼玻璃,以及蚀刻去边;S4、在硅片正面使用ALD沉积法沉积Al2O3层,实现黑硅的上表面钝化;S5、在Al2O3层上使用PECVD沉积法沉积SiNx减反射层;S6、在硅片的背面使用PECVD沉积法沉积SiO2和SiNx叠层钝化层,实现黑硅的背表面钝化;S7、在硅片背面钝化层上进行激光开槽;S8、丝网印刷导电Ag浆和Al浆,制作金属电极;S9、高温烧结,形成黑硅太阳能电池。
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