[发明专利]一种显著抑制俄歇复合的合金量子点及其制备和应用有效
| 申请号： | 201811405082.2 | 申请日： | 2018-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN111218283B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 吴凯丰;王俊慧;丁韬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | C09K11/88 | 分类号： | C09K11/88 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明具体公开了一种显著抑制俄歇复合的合金层量子点(QDs)及其制备方法。合成过程中连续注入Cd、Zn、Se前驱体，利用原子具有不同的反应活性及原子扩散度的不同，合成了一种CdSe/Cd |
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| 搜索关键词： | 一种 显著 抑制 复合 合金 量子 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
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