[发明专利]一种金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体的清洁方法

摘要

本发明公开一种金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体的清洁方法，本发明包括将所述反应腔体升温到第一温度，并向所述反应腔体内通入氢气，以去除所述反应腔体内的水气，将所述反应腔体升温到第二温度，并持续向所述反应腔体内通入氢气，以利用所述氢气烘烤所述反应腔体，将所述反应腔体保持在所述第二温度，并持续向所述反应腔体内通入氢气，且利用脉冲循环方式向所述反应腔体内通入氨气，向所述反应腔体内通入氮气，在氮气环境下将所述反应腔体的温度逐渐降低到常温。本发明能够有效对腔体内部的覆盖层进行去除，并对腔体内的金属镓、铝等原子进行钝化，保证连续生长过程中的外延片表面正常并且不会发生表面粗化现象。

主权项

1.一种金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体的清洁方法，其特征在于，包括：S1、将所述反应腔体升温到第一温度，并向所述反应腔体内通入氢气，以去除所述反应腔体内的水气；S2、将所述反应腔体升温到第二温度，并持续向所述反应腔体内通入氢气，以利用所述氢气烘烤所述反应腔体；S3、将所述反应腔体保持在所述第二温度，并持续向所述反应腔体内通入氢气，且利用脉冲循环方式向所述反应腔体内通入氨气；S4、向所述反应腔体内通入氮气，在氮气环境下将所述反应腔体的温度逐渐降低到常温。