[发明专利]一种光刻设备曝光一致性的标定补偿方法及系统在审
| 申请号： | 201811418223.4 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109375476A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 高天;董帅 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备曝光一致性的标定补偿方法及系统，将光刻设备生产线中的一台光刻设备作为基准机台，其余光刻设备作为待校准的标定机台，校准标定机台与基准机台之间的曝光机差，得到标定机台与基准机台之间的曝光补偿参数，标定机台以所述基准机台为基准，根据所述标定机台与所述基准机台之间的曝光补偿参数，对该标定机台所需处理的GDS图形进行矢量运算，得到新的图形数据，所述通过曝光补偿参数校准标定机台与基准机台的曝光一致性，将新的图形数据作为该标定机台的曝光数据；简单易于实现，满足在自动线中曝光图形规格一致性的需求，而且提高自动线产品的曝光质量，为不同机台相互对位提供数据支撑。 | ||
| 搜索关键词： | 机台 标定 光刻设备 曝光补偿 曝光 标定补偿 图形数据 校准 参数校准 曝光数据 曝光图形 矢量运算 数据支撑 曝光机 对位 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备曝光一致性的标定补偿方法，其特征在于，包括如下步骤：将光刻设备生产线中的一台光刻设备作为基准机台，其余光刻设备作为待校准的标定机台；校准标定机台与基准机台之间的曝光机差，得到标定机台与基准机台之间的曝光补偿参数；标定机台以所述基准机台为基准，通过曝光补偿参数校准标定机台与基准机台的曝光一致性。
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