[发明专利]一种等离子体处理设备的进气装置有效
| 申请号： | 201811419527.2 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN111223736B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 李娜;陈兆超;侯永刚;程实然;王铖熠;刘海洋;邱勇;胡冬冬;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 袁伟东;崔建丽 |
| 地址： | 221300 江苏省徐州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种等离子体处理设备的进气装置，包括：腔盖(1)，覆盖于反应腔室的正上方，两侧分别设置有单独的进气嘴(4,5)，分别连接外部通入的两路工艺气体；耦合窗(2)，位于腔盖(1)的内部上方，下表面与腔盖(1)之间设置有密封圈(6)，使腔盖(1)与反应腔室之间形成封闭的真空空间；以及分区匀气盘(3)，位于腔盖(1)的内部，上表面正对耦合窗(2)，下表面面对反应腔室内部，反应气通过下表面进入反应腔。本发明能够实现两路气体独立通入反应腔室，并且对其混合比例进行精确灵活的控制，控制精度较高，极大程度的改善了等离子体处理工艺如刻蚀、镀膜等工艺的均匀性，并且结构简单，方便拆装。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 设备 装置 | ||
【主权项】：
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