[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示装置在审
| 申请号： | 201811421287.X | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109387987A | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 黄北洲 | 申请（专利权）人： | 惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板制作方法，所述阵列基板制作方法包括以下步骤：提供一基板；在所述基板上依次形成薄膜晶体管的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层和保护层；涂布像素电极的光阻，通过图案化方式形成像素电极，所述像素电极不形成于保护层上，且所述像素电极直接与所述漏极金属层连接。本发明还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明ITO像素电极层不会与保护层接触，避免了保护层与ITO像素电极的不兼容问题，提高了显示装置的稳定性，提高了显示画面的稳定性和显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 像素电极 阵列基板 保护层 显示装置 基板 制作 薄膜晶体管 漏极金属层 图案化方式 源极/漏极 显示画面 显示效果 栅绝缘层 不兼容 金属层 光阻 源层 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板制作方法，其特征在于，所述阵列基板方法包括：提供一基板；在所述基板上依次形成薄膜晶体管的栅极、栅绝缘层、有源层、源极/漏极金属层和保护层；涂布像素电极的光阻，通过图案化方式形成像素电极，所述像素电极不形成于保护层上，且所述像素电极直接与所述漏极金属层连接。
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