[发明专利]用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜

摘要

本公开涉及用于沉积钝化膜的方法及设备以及从而沉积的钝化膜，方法包括：将衬底支撑在衬底支撑件上；分别使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到衬底上，所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉的第一轴线方向并列安置，且同时，在与第一轴线方向交叉的第二轴线方向上移动衬底支撑件或线性沉积源，其中在移动衬底支撑件或线性沉积源的步骤中，在第二轴线方向中的一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，且一个方向及另一方向上的移动距离不同。

主权项

1.一种用于沉积钝化膜的方法，所述方法包括：将衬底支撑在衬底支撑件上；以及使用包括线性源气体喷嘴及线性反应气体喷嘴的线性沉积源来分别将源气体及反应气体注入到所述衬底上，所述线性源气体喷嘴及所述线性反应气体喷嘴在与衬底交叉的第一轴线方向并列安置，且同时，在与所述第一轴线方向交叉的第二轴线方向上移动所述衬底支撑件或所述线性沉积源，其中在移动所述衬底支撑件或所述线性沉积源的步骤中，在所述第二轴线方向中的一个方向上及另一方向上的移动交替地执行，且在所述一个方向及所述另一方向上的移动距离不同。