[发明专利]基于硅通孔的衬底集成折叠波导滤波器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811427622.7 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN109755697B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 朱樟明;曲晨冰;刘阳;刘晓贤;卢启军;尹湘坤 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P11/00
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 张捷
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于硅通孔的衬底集成折叠波导滤波器及其制备方法,制备方法包括:1.在第一半导体衬底上刻蚀硅通孔;2.在硅通孔的内表面制备环形介质层;3.在环形介质层内制备金属柱;4.在第一半导体衬底的上表面制备第一隔离层;5.在硅通孔以及第一隔离层的上表面制备第一金属分布层;6.在第一半导体衬底的下表面制备第二隔离层;7.在硅通孔以及第二隔离层的下表面制备第二金属分布层,从而形成第一单层集成波导腔体;8.依照步骤1~7,在第二半导体衬底上制备形成第二单层集成波导腔体;9.将第一单层集成波导腔体和第二单层集成波导腔体进行层间键合。通过这种方法,减小滤波器的片上面积,易于与硅衬底电路集成。
搜索关键词: 基于 硅通孔 衬底 集成 折叠 波导 滤波器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于硅通孔的衬底集成折叠波导滤波器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(a)在第一半导体衬底上刻蚀硅通孔;(b)在所述硅通孔的内表面制备环形介质层;(c)在所述环形介质层内制备金属柱;(d)在所述第一半导体衬底的上表面制备第一隔离层;(e)在所述硅通孔以及所述第一隔离层的上表面制备第一金属分布层;(f)在所述第一半导体衬底的下表面制备第二隔离层;(g)在所述硅通孔以及所述第二隔离层的下表面制备第二金属分布层,从而形成第一单层集成波导腔体;(h)依照步骤(a)~(g),在第二半导体衬底上制备形成第二单层集成波导腔体;(i)将所述第一单层集成波导腔体和所述第二单层集成波导腔体进行层间键合,形成衬底集成折叠波导滤波器。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811427622.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top