[发明专利]一种掩膜版、制造方法及设备在审
申请号: | 201811430512.6 | 申请日: | 2018-11-28 |
公开(公告)号: | CN109491200A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 柯于军;管林立;李龙;郭平 | 申请(专利权)人: | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司;南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66;G03F1/64 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210033 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提出一种掩膜版、制造方法及设备,显示治具的技术领域,包括相对设置的第一基板和第二基板,第一基板的下表面上设置有多个阵列排布的第一遮光区,第二基板的上表面设置有多个阵列排布的第二遮光区,第一遮光区和第二遮光区的形状相同且位置一一对应;其中,掩膜版还包括有框胶,第一基板和第二基板通过框胶连接。本发明的掩膜版、制造方法及设备,可用于紫外光固化装置,通过使用两片同机型的掩膜版,经过相关工艺流程,使之形成合板的掩膜版,有效的保护膜面。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 遮光区 第二基板 第一基板 多个阵列 框胶 排布 制造 紫外光固化装置 相对设置 工艺流程 保护膜 上表面 下表面 合板 可用 治具 机型 | ||
【主权项】:
1.一种掩膜版,其特征在于,包括相对设置的第一基板和第二基板、以及连接所述第一基板和第二基板的框胶,所述第一基板的下表面上设置有多个阵列排布的第一遮光区,所述第二基板的上表面设置有多个阵列排布的第二遮光区,所述第一遮光区和第二遮光区的形状相同且位置一一对应。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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