[发明专利]一种抗冲击阻隔性共聚尼龙树脂连续合成方法及其应用在审
申请号: | 201811431802.2 | 申请日: | 2018-11-27 |
公开(公告)号: | CN109535415A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 毛新华;李晓光;刘平;杨勇 | 申请(专利权)人: | 杭州聚合顺新材料股份有限公司 |
主分类号: | C08G69/36 | 分类号: | C08G69/36;C08K9/06;C08K9/04;C08K3/34 |
代理公司: | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人: | 沈相权 |
地址: | 311201 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种共聚尼龙树脂,尤其涉及一种抗冲击阻隔性共聚尼龙树脂连续合成方法及其应用。以己内酰胺为主要反应单体,加入共聚单体以及有机纳米蒙脱土进行连续熔融聚合反应,经冷却、切粒、萃取、干燥得到高粘度的共聚尼龙树脂。一种抗冲击阻隔性共聚尼龙树脂连续合成方法及其应用,进一步满足需求。 | ||
搜索关键词: | 共聚尼龙树脂 连续合成 抗冲击 阻隔性 有机纳米蒙脱土 应用 反应单体 共聚单体 己内酰胺 熔融聚合 高粘度 切粒 萃取 冷却 | ||
【主权项】:
1.一种抗冲击阻隔性共聚尼龙树脂连续合成方法,其特征在于按如下步骤进行:以己内酰胺为主要反应单体,加入共聚单体以及有机纳米蒙脱土进行连续熔融聚合反应,经冷却、切粒、萃取、干燥得到高粘度的共聚尼龙树脂,其组成质量份如下:己内酰胺:100份;共聚单体:10‑30份;有机纳米蒙脱土:1.0‑5份。
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