[发明专利]一种InAlSb红外探测器表面钝化方法有效

专利信息
申请号: 201811438567.1 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109585601B 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 李墨;吕衍秋;朱旭波;张利学;王郁波 申请(专利权)人: 中国空空导弹研究院
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236;H01L31/0216;C30B33/10
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 杜永保
地址: 471009 *** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明涉及一种InAlSb红外探测器表面钝化方法,其步骤如下:步骤一:将InAlSb探测器芯片放入有机溶剂中浸泡;步骤二、将InAlSb探测器芯片放入酸性溶液中浸泡;步骤三:将InAlSb探测器芯片放入阳极化溶液中,设定阳极化电流并接通金属电极,当芯片表面的阻值达到设定值时,切断阳极化电源,形成阳极化膜;步骤四:清洗InAlSb探测器芯片;步骤五:放入PECVD设备中,制备介质膜。该方法可以有效降低红外探测器表面的漏电流,提高器件阻抗。
搜索关键词: 一种 inalsb 红外探测器 表面 钝化 方法
【主权项】:
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