[发明专利]半导体制造装置用的部件以及半导体制造装置有效
申请号: | 201811440918.2 | 申请日: | 2018-11-29 |
公开(公告)号: | CN109841476B | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 须川直树;佐藤直行;永关一也 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本公开涉及半导体制造装置用的部件以及半导体制造装置,目的在于使对蚀刻率和倾斜中的至少一项的控制性提高。提供半导体制造装置用的部件,所述部件被通电,在所述部件的一部分设置有绝缘构件。 | ||
搜索关键词: | 半导体 制造 装置 部件 以及 | ||
【主权项】:
1.一种半导体制造装置用的部件,所述部件被通电,在所述部件的一部分设置有绝缘构件。
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