[发明专利]控制倍缩遮蔽叶片的定位方法在审
| 申请号： | 201811444432.6 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN109839806A | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 卓鸿文;梁辅杰;陈俊光;石志聪;陈立锐;郑博中;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 聂慧荃;闫华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种控制倍缩遮蔽叶片的定位方法，用以最小化临界尺寸均匀度的冲击，其包括判断倍缩遮蔽叶片相对于反射倍缩光掩模的目标点位，以及将倍缩遮蔽叶片定位于目标点位。在成像操作时监控倍缩遮蔽叶片的位置。比较倍缩遮蔽叶片的位置和目标点位，且如果倍缩遮蔽叶片的位置在目标点位的公差外，调整倍缩遮蔽叶片的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 遮蔽 叶片 点位 成像操作 叶片定位 光掩模 均匀度 最小化 公差 反射 监控 | ||
【主权项】：
1.一种控制倍缩遮蔽叶片的定位方法，以最小化临界尺寸均匀度的冲击，包括：判断一倍缩遮蔽叶片相对于一反射倍缩光掩模的一目标点位；将该倍缩遮蔽叶片定位于该目标点位；在一成像操作时监控该倍缩遮蔽叶片的一位置；比较该倍缩遮蔽叶片的位置和该目标点位；以及如果该倍缩遮蔽叶片的位置在该目标点位的公差外，调整该倍缩遮蔽叶片的位置。
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