[发明专利]一种基于等离子喷涂技术的溅射用靶材制备工艺在审

专利信息
申请号: 201811447256.1 申请日: 2018-11-29
公开(公告)号: CN109881162A 公开(公告)日: 2019-06-14
发明(设计)人: 芮瑛;吉和林 申请(专利权)人: 芮瑛;吉和林
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C4/134;C23C4/137;C23C4/04
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 美国爱德*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种基于等离子喷涂技术的溅射用靶材制备工艺,步骤包括:将待喷涂粉体加工到用于等离子喷涂的粒度范围;对底板的表面进行满足等离子喷涂的表面处理;利用等离子体喷涂机将制备的待喷涂粉体喷涂在表面处理后的底板表面;对喷涂后的底板进行清洁和检测。该溅射用靶材制备工艺利用等离子喷涂技术进行靶材制备,具有较高的致密度(>93%的相对密度)和与初始粉末材料相当的高纯度;与热压或烧结方法相比,本发明的制备工艺既能够满足薄膜电池生产需要的大尺寸靶材制备要求,又能够用于电极材料的靶材制作。
搜索关键词: 制备工艺 等离子喷涂技术 溅射用靶材 制备 底板 等离子喷涂 喷涂粉体 靶材 喷涂 等离子体喷涂 大尺寸靶材 薄膜电池 底板表面 电极材料 粉末材料 烧结 高纯度 热压 清洁 检测 制作 加工 生产
【主权项】:
1.一种基于等离子喷涂技术的溅射用靶材制备工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,将待喷涂粉体加工到用于等离子喷涂的粒度范围;步骤2,对底板的表面进行满足等离子喷涂的表面处理;步骤3,利用等离子体喷涂机将步骤1制备的待喷涂粉体喷涂在步骤2表面处理后的底板表面;步骤4,对步骤3喷涂后的底板进行清洁和检测。
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