[发明专利]一种构件多次刻型、化铣制造方法有效
申请号: | 201811465672.4 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN109652802B | 公开(公告)日: | 2020-06-26 |
发明(设计)人: | 李明;梅雪松;谭羽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院西安光学精密机械研究所;西安交通大学 |
主分类号: | C23F1/04 | 分类号: | C23F1/04;B23P15/00;B23K26/36;B23K26/362 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 史晓丽 |
地址: | 710119 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 为了解决现有的多次刻型技术中存在的刻型精度问题,本发明提供了一种构件多次刻型、化铣制造方法,包括步骤:1)对构件进行一次刻型;2)对构件进行一次化铣;3)将一次化铣后的构件从化铣溶液取出,去除构件表面残留的胶层;4)将构件重新装夹到刻型设备工作台上;5)采集构件外部形貌的三维信息,根据三维信息逆向重建构件当前的三维模型;6)基于步骤5)得到的三维模型、产品要求的化铣侵蚀比参数进行编程,得到下一次刻型加工程序;7)依据步骤6)编制的刻型加工程序对构件进行刻型;8)对构件进行化铣。本发明在刻型的基准为与构件当前实际模型一致的重构三维模型,不存在装夹和化铣侵蚀误差,因此能够保证下一次刻型的精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 构件 多次 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种构件多次刻型、化铣制造方法,包括步骤:1)对构件进行一次刻型;2)对构件进行一次化铣;3)将一次化铣后的构件从化铣溶液取出,去除构件表面残留的胶层;4)将构件重新装夹到刻型设备工作台上;其特征在于,还包括步骤:5)采集构件外部形貌的三维信息,根据三维信息逆向重建构件当前的三维模型,评估重建得到的三维模型与上一次刻型的预期构件阶段模型的误差,若误差超出允许范围,则上一次刻型、化铣失败,当前构件作报废处理,取新的构件重新进行步骤1)‑5);若误差在允许范围内,则进入步骤6);6)基于步骤5)得到的三维模型、产品要求的化铣侵蚀比参数进行编程,得到下一次刻型加工程序;7)依据步骤6)编制的刻型加工程序对构件进行刻型;8)对构件进行化铣。
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