[发明专利]一种铝合金靶材及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811470627.8 申请日: 2018-12-04
公开(公告)号: CN109338313A 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 温艳玲;惠知;张学智 申请(专利权)人: 河北冠靶科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22C21/02;C22C21/14;C22C1/03;C22F1/043;C22F1/057
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 涂凤琴
地址: 052360 河北省石家*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明属于材料加工技术领域,具体涉及一种铝合金靶材及其制备方法。所述的铝合金靶材,以相应原子百分比的铜、硅和稀土元素为原料,制备铝合金靶材,改善所述铝合金靶材的导电性、抗腐蚀性能和抗氧化性能。具体地,铜的加入,使所述铝合金靶材的导电性能提高,硅的加入改变所述铝合金靶材的热膨胀系数,消除薄膜中产生的压缩残余应力,从而消除膜层起包现象,改善溅射镀膜膜层的表面质量。本发明的铝合金靶材的制备方法,先以全部的铜、硅、稀土元素和部分铝混合熔融制成母合金,所述母合金的制备过程使铜、硅和稀土元素更好地与铝熔融混合,再以熔融混合好的铝‑硅‑铜‑稀土合金与剩余部分的铝熔融铸锭,以解决硅、铜难熔融及成分均匀等问题,获得成分均匀的铝合金靶材。
搜索关键词: 铝合金靶 制备 稀土元素 熔融 熔融混合 母合金 膜层 材料加工技术 抗腐蚀性能 抗氧化性能 热膨胀系数 原子百分比 导电性 残余应力 导电性能 溅射镀膜 稀土合金 制备过程 铸锭 薄膜 压缩
【主权项】:
1.一种铝合金靶材,其特征在于,以原子百分比计,包括:铜0.1‑0.5%、硅0.1‑0.5%和稀土元素0.01‑0.1%,余量为铝。
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