[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 201811476247.5 | 申请日: | 2018-12-04 |
公开(公告)号: | CN109671719A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 胡俊艳 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L27/32;G09F9/30 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,阵列基板具有弯折区和与弯折区相邻的像素区,像素区具有若干像素单元区和连接于所述像素单元区的非像素单元区;阵列基板包括柔性基板和阵列层;所述阵列层包括阵列基层,具有第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽对应于像素区中的非像素单元区;第二凹槽对应于弯折区;以及填充层,填充于所述第一凹槽和第二凹槽内;以及有机介电层,覆于阵列基层与填充层上,有机介电层和填充层所用材料均为有机光阻材料。本发明的阵列基板及其制作方法、具有该阵列基板的显示装置,有效降低了阵列基板中各膜层在弯折时的应力,能够实现像素区的弯折。 | ||
搜索关键词: | 阵列基板 像素单元区 像素区 显示装置 填充层 弯折区 有机介电层 阵列层 弯折 制作 柔性基板 膜层 填充 基层 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,具有弯折区和与弯折区相邻的像素区,所述像素区具有若干像素单元区和连接于所述像素单元区的非像素单元区;其特征在于,所述阵列基板包括柔性基板和阵列层,所述阵列层覆于所述柔性基板上;所述阵列层包括阵列基层,具有第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽对应于所述像素区中的所述非像素单元区;所述第二凹槽对应于所述弯折区;填充层,填充于所述第一凹槽和第二凹槽内;以及有机介电层,覆于所述阵列基层与所述填充层上,所述有机介电层和所述填充层所用材料均为有机光阻材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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