[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201811476247.5 申请日: 2018-12-04
公开(公告)号: CN109671719A 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 胡俊艳 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;G09F9/30
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,阵列基板具有弯折区和与弯折区相邻的像素区,像素区具有若干像素单元区和连接于所述像素单元区的非像素单元区;阵列基板包括柔性基板和阵列层;所述阵列层包括阵列基层,具有第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽对应于像素区中的非像素单元区;第二凹槽对应于弯折区;以及填充层,填充于所述第一凹槽和第二凹槽内;以及有机介电层,覆于阵列基层与填充层上,有机介电层和填充层所用材料均为有机光阻材料。本发明的阵列基板及其制作方法、具有该阵列基板的显示装置,有效降低了阵列基板中各膜层在弯折时的应力,能够实现像素区的弯折。
搜索关键词: 阵列基板 像素单元区 像素区 显示装置 填充层 弯折区 有机介电层 阵列层 弯折 制作 柔性基板 膜层 填充 基层
【主权项】:
1.一种阵列基板,具有弯折区和与弯折区相邻的像素区,所述像素区具有若干像素单元区和连接于所述像素单元区的非像素单元区;其特征在于,所述阵列基板包括柔性基板和阵列层,所述阵列层覆于所述柔性基板上;所述阵列层包括阵列基层,具有第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽对应于所述像素区中的所述非像素单元区;所述第二凹槽对应于所述弯折区;填充层,填充于所述第一凹槽和第二凹槽内;以及有机介电层,覆于所述阵列基层与所述填充层上,所述有机介电层和所述填充层所用材料均为有机光阻材料。
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