[发明专利]一种基于一次曝光圆台状微坑阵列芯片的制备方法在审
| 申请号： | 201811477477.3 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN111269832A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 秦建华;邓鹏伟;姜雷;刘海涛 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | C12M3/00 | 分类号： | C12M3/00 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于一次曝光圆台状微坑阵列芯片的制备方法。该制备方法主要利用按一定角度倾斜的匀速旋转可旋转平台，在其上对旋涂在基底（玻璃/硅片）上光刻胶进行曝光，然后显影，坚膜，最后用PDMS倒模，从而制备得到均一圆台状微坑阵列芯片。该芯片可以用于细胞固定，细胞成球培养，拟胚体形成等。该方法相较于现有微坑制备方法操作简单，只需要一次曝光，无需复杂操作，成功率高，批次差异小，能够实现较大的深宽比。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 一次 曝光 圆台 状微坑 阵列 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所，未经中国科学院大连化学物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811477477.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
