[发明专利]一种采用磁控溅射制备的Sr3 有效
| 申请号： | 201811486615.4 | 申请日： | 2018-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN109628900B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 王霞;李培刚;唐为华 | 申请（专利权）人： | 唐为华 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王文君;陈征 |
| 地址： | 100086 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种采用磁控溅射制备Sr |
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| 搜索关键词： | 一种 采用 磁控溅射 制备 sr base sub | ||
【主权项】：
1.一种采用磁控溅射制备Sr3Al2O6薄膜的方法，其特征在于，将Sr3Al2O6陶瓷靶材通过磁控溅射的方式，在衬底的温度为300℃‑850℃的生长条件下，制备Sr3Al2O6薄膜。
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