[发明专利]一种金属螺旋微纳结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811490931.9 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN109375477B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 刘凯;王天堃 申请(专利权)人: 中山科立特光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/16;C23C14/30;C23C14/18;C23C14/04
代理公司: 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 代理人: 王新爱
地址: 528458 广东省中*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及微纳结构制备领域,具体涉及一种金属螺旋微纳结构的制备方法,采用涂敷光刻胶,再用电子束刻蚀,最后显影定影的方法制备金属螺旋结构。制备过程只需将写场对准一次,分别曝光四个区域,且只需要蒸镀一次就可以制备出金属螺旋型结构。该结构四周都由光刻胶包围着,可以起到保护金属螺旋微纳结构的作用。
搜索关键词: 一种 金属 螺旋 结构 制备 方法
【主权项】:
1.一种金属螺旋微纳结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:准备玻璃基底(100):准备ITO玻璃基底(100)并清洗吹干;涂覆光刻胶:用甩胶机在所述基底(100)的表面甩两层光刻胶;电子束曝光结构图形:用图形发生器设计矩形周期阵列结构,所述矩形周期阵列结构的每个单元结构是由第一矩形(1)、第二矩形(2)、第三矩形(3)和第四矩形(4)以及第五区域(5)构成,所述第一矩形(1)、第二矩形(2)、第三矩形(3)和第四矩形(4)首尾垂直相连,构成矩形环,所述每个单元结构除过矩形环的部分为第五区域(5);设计好图形之后,用扫描电子显微镜依次曝光第一矩形(1)、第二矩形(2)、第三矩形(3)和第四矩形(4),对不同区域曝光的深浅不同;显影定影:用正胶显影定影液对曝光后的基底(100)进行浸泡处理;蒸镀金属:采用电子束真空蒸发镀膜仪垂直蒸镀金属材料(103);显影定影:用负胶显影定影液对曝光后的基底(100)进行浸泡处理。
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