[发明专利]一种双F型纳米孔阵列及其调控圆二色性的方法在审
申请号: | 201811490970.9 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN109298549A | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 刘凯;王天堃;冯晓钰 | 申请(专利权)人: | 中山科立特光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528458 广东省中*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及微纳光学领域,具体涉及一种双F型纳米孔阵列及其调控圆二色性的方法,该双F型纳米孔阵列由多个金属纳米单元结构按矩形周期阵列拼接构成,所述每个金属纳米单元结构由矩形金属纳米薄膜制成,其矩形金属纳米薄膜的中间形成中心对称的双F型纳米孔。由于左右旋圆偏振光照射在该结构上,产生的电场强度不同,导致了大的圆二色性出现,其中圆二色性最大达到了41%,并且该申请提出了基于双F型纳米孔阵列调控圆二色性的方法,该调控方法通过在结构中设置二氧化钒相变材料,改变结构所处的环境温度来调控圆二色性的大小,方法简单可行,节省资源,易于操作。 | ||
搜索关键词: | 圆二色性 纳米孔阵列 调控 单元结构 金属纳米 矩形金属 纳米薄膜 二氧化钒 改变结构 节省资源 微纳光学 相变材料 圆偏振光 中心对称 周期阵列 纳米孔 拼接 照射 申请 | ||
【主权项】:
1.一种双F型纳米孔阵列,由多个金属纳米单元结构按矩形周期阵列拼接构成,其特征在于:所述每个金属纳米单元结构由矩形金属纳米薄膜(1)制成,其矩形金属纳米薄膜(1)的中间形成中心对称的双F型纳米孔(2)。
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