[发明专利]采用UV激光钻孔直接电镀制作FPC内层的方法有效
申请号: | 201811495450.7 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN109475044B | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 林睦群 | 申请(专利权)人: | 常熟东南相互电子有限公司 |
主分类号: | H05K3/00 | 分类号: | H05K3/00;H05K3/42;H05K1/09 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 韩飞 |
地址: | 215558 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种采用UV激光钻孔直接电镀制作FPC内层的方法,包括以下步骤:1)内层发料,按设计规定选择PI基材软板;2)软板裁切,用机械切割基材软板;3)内层钻孔,采用UV激光对切割后的基材进行钻孔处理;4)内层干膜,包括表面处理、贴膜、曝光、显影、蚀刻、褪膜处理;5)电镀,对基板及通孔进行电镀铜处理;6)后制程。本发明采用UV激光钻孔直接电镀工艺代替传统的机械钻孔和黑孔工艺,避免了传统机械钻孔的不足,省去复杂的黑孔工艺,简化了FPC内层的生产流程,提高了生产效率,并减少生产成本和废水排放。 | ||
搜索关键词: | 采用 uv 激光 钻孔 直接 电镀 制作 fpc 内层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种采用UV激光钻孔直接电镀制作FPC内层的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)内层发料,按设计规定选择PI基材软板;2)软板裁切,用机械切割基材软板;3)内层钻孔,采用UV激光对切割后的基材进行钻孔处理,所述钻孔为通孔;4)内层干膜,包括表面处理、贴膜、曝光、显影、蚀刻、褪膜处理;5)电镀,对基板及通孔进行电镀铜处理;6)后制程。
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