[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201811497063.7 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN109671720B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 杨维;袁广才;宁策;卢鑫泓;周天民;杨昕 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 袁礼君;阚梓瑄
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开涉及显示技术领域,提出一种阵列基板的制作方法,该制作方法包括:在衬底基板之上依次形成第一半导体图案以及第一绝缘层组;在第一绝缘层组之上依次形成第二半导体图案以及第二绝缘层组;在第一绝缘层组以及第二绝缘层组形成两个第一过孔以露出第一半导体图案,并对露出的第一半导体图案进行退火且去除第一半导体图案表面的氧化层;在第一过孔内形成连接导线;在第二绝缘层组形成第二过孔以露出第二半导体图案,并在第二过孔内形成第一源极和第一漏极,使第一源极或第一漏极覆盖连接其中一个连接导线。使用该方法在对第一半导体图案进行退火时不会对第一源极和第一漏极产生影响,避免影响到电阻和显示屏的信赖性。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板之上依次形成第一半导体图案以及第一绝缘层组;在所述第一绝缘层组之上依次形成第二半导体图案以及第二绝缘层组;在所述第一绝缘层组以及所述第二绝缘层组形成两个第一过孔以露出所述第一半导体图案,并对露出的所述第一半导体图案进行退火且去除所述第一半导体图案表面的氧化层;在所述第一过孔内形成连接导线;在所述第二绝缘层组形成第二过孔以露出所述第二半导体图案,并在所述第二过孔内形成第一源极和第一漏极,使所述第一源极或所述第一漏极覆盖连接其中一个所述连接导线。
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