[发明专利]单光栅相衬成像方法及系统

摘要

本发明提供了一种单光栅相衬成像方法及系统，方法包括：选择光源靶结构周期为p0的光源、光栅周期为p1的光栅及像素尺寸为p的探测器，其中，1/p0+1/Kp＝η/p1，K≥3，η为根据光栅类型确定的已知参数；将光源、光栅和探测器放置在同一光路上，其中，光源与光栅之间具有第一距离、光栅与探测器之间具有第二距离，第二距离大于第一距离；将样品台放置在光源和探测器之间，并获取背景图像；将待成像物体放置在样品台上，并对待成像物体成像，得到物体图像，本发明使用一块光栅单次曝光实现相衬成像，缓解现有光栅相衬成像系统的工艺要求高、成本高和普及率低的技术问题，达到了降低光栅相衬成像系统的工艺要求、成本和提高光栅相衬成像系统的普及率的技术效果。

主权项

1.一种单光栅相衬成像方法，其特征在于，包括：选择光源靶结构周期为p0的光源、光栅周期为p1的光栅及像素尺寸为p的探测器，其中，1/p0+1/Kp＝η/p1，K≥3，η为根据所述光栅类型确定的已知参数；将所述光源、所述光栅和所述探测器放置在同一光路上，其中，所述光源与所述光栅之间具有第一距离、所述光栅与所述探测器之间具有第二距离，所述第二距离大于所述第一距离；将样品台放置在所述光源和所述探测器之间，并获取背景图像；将待成像物体放置在所述样品台上，并对所述待成像物体成像，得到物体图像。