[发明专利]一种超宽且均匀的磁过滤系统和圆柱电弧靶及真空设备

摘要

本发明公开了一种超宽且均匀磁过滤系统和圆柱电弧靶设备，包括宽磁过滤系统、真空室、圆柱靶、磁场等。其中，磁场分为控制磁场、强脉冲磁场以及过渡磁场；圆柱靶工作时为可旋转靶材。本发明圆柱靶高度不小于0.7m，圆柱的直径为110‑150mm，弧靶内永磁体磁场强度为10‑80mT；沉积镀膜时最大尺寸方向在高度80％的范围内均匀性好于±5％；在起弧电流为200A时圆柱靶材的工作寿命不低于150小时。采用该设计设备能够进行大规模的磁过滤沉积生产，表面无颗粒，弥补了常规磁过滤设备的均匀性差，沉积尺寸受限的关键技术瓶颈。

主权项

1.一种超宽且均匀磁过滤系统和圆柱电弧靶及真空设备，其特征包括：主要部件：圆柱电弧靶、宽磁过滤系统、阳极筒系统、工件系统、磁场系统、真空系统以及进气系统；宽磁过滤系统所涉及的磁场包括：圆柱内靶永磁体磁场强度10‑80mT；连接靶和弯管的控制磁场，磁场强度10‑80mT；连接控制磁场的强脉冲磁场，其线包电流范围为50A‑1kA；连接强脉冲磁场和真空室的过渡磁场，磁场强度为10‑50mT；圆柱电弧靶可为导磁、非导磁金属材料，圆柱靶高度可为任意高，圆柱靶的直径为110‑150mm；阳极筒为导磁阳极筒，其相对磁导率为200‑2000；起弧工作的弧斑条数为2‑5条，设置两个辅助阳极系统，膜沉积不均匀度不大于±15％；工件系统内包括永磁体和公自转系统。