[发明专利]一种铂纳米锥阵列结构的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201811504013.7 申请日: 2018-12-10
公开(公告)号: CN109468668B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 吴天准;曾齐 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: C25D3/50 分类号: C25D3/50;B82Y40/00;G01N27/30;B01J23/42;B01J37/34
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种铂纳米锥阵列结构的制备方法,包括:提供铂盐溶液,向所述铂盐溶液中加入晶型促进剂,混合均匀后形成电沉积溶液,其中,所述晶型促进剂包括无机铵盐和有机胺类中的至少一种;提供导电基体,将所述导电基体置于所述电沉积溶液中,采用电沉积的方法在所述导电基体表面制得铂纳米锥阵列结构。通过加入合适的晶型促进剂,控制电沉积过程中形成的铂纳米阵列形貌,制得形貌均匀一致的铂纳米锥阵列结构,提高其电化学性能和催化性能,同时保证了生物兼容性;该制备方法简单,适用于在各种规格的器件表面制备铂纳米锥阵列结构,提高器件在传感器领域、催化领域以及神经接口领域中的应用。
搜索关键词: 一种 纳米 阵列 结构 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
1.一种铂纳米锥阵列结构的制备方法,其特征在于,包括:提供铂盐溶液,向所述铂盐溶液中加入晶型促进剂,混合均匀后形成电沉积溶液,其中,所述晶型促进剂包括无机铵盐和有机胺类中的至少一种;提供导电基体,将所述导电基体置于所述电沉积溶液中,采用电沉积的方法在所述导电基体表面制得铂纳米锥阵列结构。
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