[发明专利]一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法有效
| 申请号： | 201811504093.6 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN109731746B | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 王晓栋;赵慧月;沈军;苏怡璇 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | B05D1/00 | 分类号： | B05D1/00;B05D1/02;B05D1/30;B05D3/00;B05D7/04;B05D7/24;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 林君如 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，具体包括以下步骤：(1)清洁环境下，将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫，得到洁净的光学塑料基底材料；(2)清洁环境下，将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜，得到镀制了减反膜的光学塑料；(3)采用挥发性有机溶剂，对步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料进行气氛处理。与现有技术相比，本发明在保持原本优异光学透过性能的同时，极大提高薄膜与基底界面的结合力，机械性能大幅提高，减反膜嵌入光学塑料表面的深度可以按需求灵活调控，镀制的减反膜可直接通过简单的操作方法在大面积基底上制备，易于实现低成本、大规模工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光学 塑料 表面 强度 嵌入式 减反膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：(1)清洁环境下，将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫，得到洁净的光学塑料基底材料；(2)清洁环境下，将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜，得到镀制了减反膜的光学塑料；(3)将挥发性有机溶剂置于恒温密闭环境中备用；(4)将步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料放入步骤(3)的密闭环境中进行反应，即完成制备。
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