[发明专利]一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法

摘要

本专利提供了一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法，创新性的提出采用光线模拟技术模拟异型零件多自由度运动，使被镀异型零件进行高精度多自由度运动，实时调节异型零件摆动角度、自转速率、公转周期等运动参数，调整异型零件相对溅射沉积时间，提高异型零件均匀性，同时合理监测薄膜厚度。最终保证产品膜层厚度小于80nm、膜层均匀性小于3％。解决了异型零件镀膜膜层均匀性难以控制的问题。

主权项

1.一种提高异形零件镀膜均匀性的控制方法，其特征在于被镀工件在镀膜过程中进行公转、自转和摆动的复合运动；被镀工件安装在多自由度工作平台上，所述多自由度工作平台垂直于靶材的轴线做圆周运动，带动被镀工件做公转运动，所述多自由度工作平台夹持直径为600mm，公转速率在10r/min‑15r/min；被镀工件相对于所述多自由度工作平台进行自传运动，自转速率在15r/min‑20r/min；被镀工件被所述多自由度工作平台夹持工具夹持并在公转运动和自传运动同时进行摆动运动，工件在水平面绕公转轴作公转运动，同时绕工件中心轴作自转运动，并且在垂直于公转轴的平面内作摆动运动，形成公转、自转、摆动合成运动；以每个间隔摆动度数停留一端时间继续自由转动镀膜；半球的膜厚分布公式为：H(θ)＝λ₁H1(θ)+λ₂H2(θ)+…+λ_nHn(θ)其中，每个摆角处单独自转镀膜时所得到的各环带的薄膜厚度分布为H1(θ)，H2(θ)...Hn(θ)；比例因子λ₁、λ₂…λ_n是调整不同摆角处半球自转镀膜时间。