[发明专利]薄膜晶体管以及制备方法有效

专利信息
申请号: 201811519352.2 申请日: 2018-12-12
公开(公告)号: CN109638082B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 徐苗;徐华;李美灵;王磊;李民;庞佳威;陈子楷;彭俊彪;邹建华;陶洪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 510641 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种薄膜晶体管以及制备方法,该薄膜晶体管包括:基板;形成在基板上的栅极层、第一绝缘层和有源层;形成在有源层上的图案化的源极和漏极,分别与有源层电连接;形成在图案化的源极和漏极上的有机钝化层,有机钝化层与有源层直接接触;有源层包括金属氧化物,金属氧化物包括铟的氧化物In2O3和第五副族元素的氧化物MO组成的复合氧化物,有机钝化层为聚合物有机物材料。本发明的技术方案,有机钝化层与铟的氧化物In2O3和第五副族元素的氧化物MO组成的复合氧化物组成的有源层直接接触,一方面,有机钝化层和有源层直接接触不会对有源层造成施主掺杂的效果,器件正常稳定工作;另一方面,制备工艺简单且成本较低。
搜索关键词: 薄膜晶体管 以及 制备 方法
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括:基板;形成在基板上的栅极层;形成在所述栅极层上的第一绝缘层;形成在所述第一绝缘层上的有源层;形成在所述有源层上的图案化的源极和漏极,分别与所述有源层电连接;形成在所述图案化的源极和漏极上的有机钝化层,所述有机钝化层与所述有源层直接接触;所述有源层为金属氧化物,所述金属氧化物包括铟的氧化物In2O3和第五副族元素的氧化物MO组成的复合氧化物(In2O3)a(MO)b,其中,a+b=1,0.10≤b≤0.50;所述有机钝化层为聚合物有机物材料,所述聚合物有机物材料包括酰亚胺基聚合物、酰胺基聚合物、乙烯醇基聚合物、苯酚基聚合物、丙烯基聚合物、烯丙醚基聚合物、聚乙烯吡咯烷酮、氟基聚合物和聚乙酸乙烯酯中的中的一种或者多种。
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