[发明专利]一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法

摘要

本发明公开了一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法。将低密度种植的作物定植于沟或塘后，覆盖一层1‑2cm厚的薄土，在薄土层上施入土壤改良剂，覆土与改良剂均匀混合。作物生长过程中适时培土于作物根部，促进作物不定根的生长，最大程度保证作物根系处于所改良的土层中，更好地发挥土壤局部改良的效果。本发明以解决作物栽培过程中，土壤改良与作物根系生长同时进行，不影响农业生产；土壤改良剂施用量小，精准定位于作物局部根区，促进作物根系生长，提高作物产质量。

主权项

1.一种适用于低密度种植作物的局部根区土壤改良栽培方法，其特征在于，具体包括如下步骤：步骤1：根据目标作物根系范围参数以及种植株距确定栽培方式；步骤2：将幼苗定植入塘或沟里，然后覆盖1‑2cm厚的薄土；步骤3：在薄土层上通过环形或条状施肥的方法施入土壤改良剂；步骤4：在土壤改良剂上进行覆土层，土壤覆盖至距离沟面或塘面3‑5cm将覆土层与土壤改良剂均匀混合；步骤5：在作物生长管理中，根据作物的生长情况，适时培土。