[发明专利]显示器的制备方法在审
申请号: | 201811521908.1 | 申请日: | 2018-12-13 |
公开(公告)号: | CN109599507A | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 顾宇 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种显示器的制备方法,包括如下步骤:像素定义层制备步骤、通孔设置步骤、第一功能层制备步骤、像素有机层制备步骤、第二功能层制备步骤以及电极层制备步骤。本发明的技术效果在于,无需使用精密掩膜版即可制备高像素密度的显示器,节约成本,制作工序简单易行,蒸镀硫层相对于精密掩膜版更易操作,且大大降低清洗维护成本。 | ||
搜索关键词: | 制备 显示器 功能层 掩膜版 精密 像素定义层 技术效果 电极层 高像素 有机层 硫层 通孔 像素 蒸镀 清洗 节约 制作 维护 | ||
【主权项】:
1.一种显示器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1像素定义层制备步骤,提供一基板,在所述基板上涂布出一像素定义层,包括两个以上像素单元区;S2通孔设置步骤,在每一像素单元区内的像素定义层设置三个通孔,分别为第一通孔、第二通孔及第三通孔;S3第一功能层制备步骤,在所述像素定义层上蒸镀出一第一功能层;S4像素有机层制备步骤,依次制备三个亚像素有机层,分别对应三个通孔;S5第二功能层制备步骤,在所述像素功能层上表面蒸镀出一第二功能层;以及S6电极层制备步骤,在所述第二功能层上表面蒸镀出一电极层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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