[发明专利]显示器的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811521908.1 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109599507A 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 顾宇 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种显示器的制备方法,包括如下步骤:像素定义层制备步骤、通孔设置步骤、第一功能层制备步骤、像素有机层制备步骤、第二功能层制备步骤以及电极层制备步骤。本发明的技术效果在于,无需使用精密掩膜版即可制备高像素密度的显示器,节约成本,制作工序简单易行,蒸镀硫层相对于精密掩膜版更易操作,且大大降低清洗维护成本。
搜索关键词: 制备 显示器 功能层 掩膜版 精密 像素定义层 技术效果 电极层 高像素 有机层 硫层 通孔 像素 蒸镀 清洗 节约 制作 维护
【主权项】:
1.一种显示器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1像素定义层制备步骤,提供一基板,在所述基板上涂布出一像素定义层,包括两个以上像素单元区;S2通孔设置步骤,在每一像素单元区内的像素定义层设置三个通孔,分别为第一通孔、第二通孔及第三通孔;S3第一功能层制备步骤,在所述像素定义层上蒸镀出一第一功能层;S4像素有机层制备步骤,依次制备三个亚像素有机层,分别对应三个通孔;S5第二功能层制备步骤,在所述像素功能层上表面蒸镀出一第二功能层;以及S6电极层制备步骤,在所述第二功能层上表面蒸镀出一电极层。
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