[发明专利]研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法

摘要

本发明公开了一种研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法，通过DNA折纸溶液所处磁场强度的改变，观察其形貌结构的方法和荧光分析其双链的完整性的方法。本发明基于扫描探针显微镜观察，简单易操作，形貌清晰；基于荧光分光光度计的双链键合情况分析灵敏度高且结果可靠；使用云母片构建界面，易于实现，且可探究的因素多，移植性强；也适用于其他可使用荧光染料材料的分析；本方法也适用于探究磁场对多种二维可插入荧光分子的平面材料的影响。

主权项

1.一种研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法，以DNA二维折纸结构为基材，其特征在于改变DNA二维折纸结构所处的磁场强弱并维持一定时间，然后结合原子力显微镜和荧光分光光度计来分析其形貌变化和双链之间键合情况，包括以下步骤：（1）环境磁场强度的改变环境磁场的改变设计：将含有DNA二维折纸结构溶液置于强磁场实验装置（SHMFF）中进行磁化处理，改变该DNA二维折纸结构溶液所处位置的磁场强度形成磁场梯度变化并维持0.5h‑70h，其中，磁场强度为0T‑27T，梯度为0T/m‑180T/m；（2）对于DNA二维折纸形貌观察用云母片构建界面，取3μL磁场处理后的DNA二维折纸结构溶液滴加到新剥离的云母片上沉积3 min，用超纯水冲洗掉界面上的盐分，氮气吹干最后置于大气下扫描探针显微镜下观察；（3）折纸结构荧光信号观察取18 μL 磁场处理后的DNA二维折纸结构溶液，向其中加入77 μL 1×TAE Mg2+溶液，再加入至少5 μL荧光染料混合均匀后转移到微量比色皿中，置于荧光分光光度计下观察。