[发明专利]一种激光掺杂选择性发射结及其制作方法

摘要

本申请公开了一种激光掺杂选择性发射结的制作方法，通过对初步扩散发射结进行局部激光照射，以得到预处理发射结；去除预处理发射结表面的掺杂源，以得到二次处理发射结；利用预设质量分数的碱溶液，沿激光照射方向对二次处理发射结的表面进行腐蚀，腐蚀高度为预设高度，以得到激光掺杂选择性发射结。通过激光照射使预处理发射结的被照射区域表面掺杂浓度高于未被照射区域，去除表面掺杂源，用预设质量分数的碱溶液，将二次处理发射结的表面腐蚀掉预设高度，导致未被照射区域表面的掺杂浓度降低，而被照射区域表面的掺杂浓度仍然较高，即实现不同区域表面的掺杂浓度独立调节。本申请还提供一种具有上述优点的激光掺杂选择性发射结。

主权项

1.一种激光掺杂选择性发射结的制作方法，其特征在于，包括：对初步扩散发射结进行局部激光照射，以得到预处理发射结；去除所述预处理发射结表面的掺杂源，以得到二次处理发射结；利用预设质量分数的碱溶液，沿激光照射方向对所述二次处理发射结的表面进行腐蚀，腐蚀高度为预设高度，以得到激光掺杂选择性发射结。