[发明专利]一种防止单晶硅生长炉高温计取光孔玻璃沾污的装置及方法在审

专利信息
申请号: 201811529112.0 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN111321459A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 秦瑞锋;鲁强;姜舰;连庆伟;盖晶虎;戴小林;吴志强 申请(专利权)人: 有研半导体材料有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 101300 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种防止单晶硅生长炉高温计取光孔玻璃沾污的装置及方法。该装置由悬挂板、连接杆、屏蔽环三部分组成,连接杆连接在悬挂板与屏蔽环之间;该装置位于热场的固化碳毡与炉体之间,屏蔽环、固化碳毡上的透光孔、炉体上的取光孔三者的几何中心位于一条直线上。本发明可以防止高温挥发物在走向排气孔的过程中沉积在温度较低的取光孔玻璃上,防止片状高温挥发物落在取光孔与透光孔之间造成光信号衰减,从而保证光信号的传递的稳定性,保证热场温度参考点的一致性,提高成晶率。
搜索关键词: 一种 防止 单晶硅 生长 高温 计取光孔 玻璃 沾污 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于有研半导体材料有限公司,未经有研半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811529112.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top