[发明专利]平面式场效应晶体管在审

专利信息
申请号: 201811531739.X 申请日: 2018-12-14
公开(公告)号: CN110010686A 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: G.科茨洛夫斯基;A.迈泽 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40;H01L29/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 臧永杰;申屠伟进
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 本公开内容涉及一种平面式场效应晶体管(100)。所述平面式场效应晶体管(100)具有在半导体本体(112)的第一表面(106)上在沟道区域(104)和漏极连接端(D)之间的漏极扩展区域(102)。此外,所述平面式场效应晶体管(100)具有第一电极部分(108)和第二电极部分(110),其横向相互间隔开,其中,所述第一电极部分(108)作为栅电极布置在所述沟道区域(104)之上,所述第二电极部分(110)布置在所述漏极扩展区域(102)之上并且与所述第一电极部分(108)电分离。
搜索关键词: 场效应晶体管 平面式 第一电极 漏极 第二电极 沟道区域 扩展区域 半导体本体 第一表面 电分离 连接端 栅电极
【主权项】:
1.一种平面式场效应晶体管(100),所述平面式场效应晶体管具有:在半导体主体(112)的第一表面(106)上在沟道区域(104)和漏极连接端(D)之间的漏极扩展区域(102);第一电极部分(108)和第二电极部分(110),所述第一电极部分和所述第二电极部分横向相互间隔开,其中,所述第一电极部分(108)作为栅电极布置在所述沟道区域(104)之上,并且所述第二电极部分(110)布置在所述漏极扩展区域(102)之上并且与所述第一电极部分(108)电分离。
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