[发明专利]一种超短焦抗光结构的制作方法有效
| 申请号： | 201811531764.8 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109696794B | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 廖巧生;黄少云 | 申请（专利权）人： | 烟台市谛源光科有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/60 | 分类号： | G03B21/60;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中索知识产权代理有限公司 11640 | 代理人： | 宋涛 |
| 地址： | 264000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及短焦投影技术领域，提供了一种超短焦抗光结构的制作方法，包括在基板上模压出的光学微结构的表面上均匀沉积金属材料形成反射层；在反射层上均匀覆盖光阻材料；选定区域进行曝光；显影去除被曝光的光阻材料，露出所述区域内的反射层；刻蚀掉露出的反射层上的金属材料，形成抗光侧；去除剩余的光阻材料，露出反射层，得所述抗光结构。借此，本发明通过在光学微结构上均匀沉积金属材料，再在金属材料上覆盖光阻材料；之后对选定区域内的光阻材料进行曝光、显影，再去除掉露出的金属材料，形成抗光侧；最后去除剩余的光阻材料形成反射层。获得了特定分布的反射层结构，避免了现有技术的缺陷，得到了高品质的抗光结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超短 焦抗光 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种超短焦抗光结构的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：第一步，在基板上模压出的光学微结构的表面上均匀沉积金属材料形成反射层；第二步，在反射层上均匀覆盖光阻材料；第三步，使用照射光对选定区域进行曝光；第四步，显影去除选定区域内被曝光的光阻材料，露出所述区域内的反射层；第五步，刻蚀掉露出的反射层上的金属材料，形成抗光侧；第六步，去除剩余的光阻材料，露出反射层，得所述抗光结构。
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