[发明专利]带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置有效
| 申请号： | 201811532251.9 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN109954488B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 内藤胜之;信田直美;千草尚;大川猛;荻原孝德;横田昌广;太田英男;猪又宏贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B01J23/30 | 分类号： | B01J23/30;B01J37/02;A62D3/17;A61L9/01;A61L9/18;A62D101/28;A61L101/02;A62D101/40 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及带光催化剂的基材及其制造方法以及光催化装置。本发明可得到能简便地制作且难以剥离的带光催化剂的基材。实施方式的带光催化剂的基材包含：基材；基底层，所述基底层设置在基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。 | ||
| 搜索关键词： | 光催化剂 基材 及其 制造 方法 以及 光催化 装置 | ||
【主权项】：
1.一种带光催化剂的基材，其包含：基材；基底层，所述基底层设置在所述基材上，在pH6的水中具有正的Zeta电位；和光催化剂层，所述光催化剂层设置在所述基底层上，含有具有负的Zeta电位的光催化剂材料。
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