[发明专利]含硅的耐原子氧聚酰亚胺薄膜组合物及其制备方法

摘要

本发明提供了一种含硅的耐原子氧聚酰亚胺薄膜材料及其制备方法，所述薄膜材料包括依次设置的基底薄膜层、过渡层和表面防护层；所述基底薄膜层包括改性聚酰亚胺基体和纳米SiO2填料；所述过渡层为Si‑O‑Si与聚酰亚胺互穿网络结构；所述表面防护层为纯二氧化硅层。本发明制得的耐原子氧聚酰亚胺薄膜为淡黄色、厚度50‑80μm、拉伸强度≥200MPa、绝缘强度≥230V/μm、满足原子氧总累积量7.83×1022atom/cm2(近地轨道运行10年)作用后质量损失率≤10％，光学性能变化≤10％的指标要求，涂层经过‑100～+100℃100次高低温热循环试验后，无明显裂纹、光学性能稳定、力学性能良好。

主权项

1.一种含硅的耐原子氧聚酰亚胺薄膜材料，其特征在于，包括依次设置的基底薄膜层、过渡层和表面防护层；所述基底薄膜层包括改性聚酰亚胺基体和纳米SiO₂填料；所述过渡层为Si‑O‑Si与聚酰亚胺互穿网络结构；所述表面防护层为纯二氧化硅层。