[发明专利]纳米涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201811549087.2 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN109468615A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 董兵海;梁子辉;王世敏;程凡;赵丽;万丽;王二静;李静 | 申请（专利权）人： | 湖北大学 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C16/50;C23C16/455;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 王术兰 |
| 地址： | 430062 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种纳米涂层及其制备方法，该纳米涂层的制备方法包括：利用原子层沉积技术在基材表面的纳米二氧化硅涂层上沉积三甲基铝薄膜，其中，所述纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。上述方法通过采用等离子增强化学沉积法单独涂覆形成纳米二氧化硅，进而使得纳米涂层能够在基材表面的附着力强，再对稳定的纳米二氧化硅涂层表面原子层沉积技术沉积三甲基铝薄膜。而相对于纳米二氧化硅涂层，三甲基铝薄膜与纳米二氧化硅涂层表面结合后形成的纳米涂层表面水接触角的变大，并且通过控制三甲基铝薄膜沉积的厚度，可以控制纳米涂层表面水接触角的大小，进而可实现纳米涂层从超亲水性到超疏水性的控制。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米涂层 纳米二氧化硅 三甲基铝 制备 薄膜 原子层沉积技术 表面水接触角 基材表面 涂层表面 沉积 等离子体增强化学气相沉积 等离子增强 化学沉积法 薄膜沉积 超亲水性 超疏水性 附着力强 涂覆 | ||
【主权项】：
1.一种纳米涂层的制备方法，其特征在于，其包括：利用原子层沉积技术在基材表面的纳米二氧化硅涂层上沉积三甲基铝薄膜，其中，所述纳米二氧化硅涂层通过等离子体增强化学气相沉积法制备得到。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
