[发明专利]应用于连续搅拌反应釜中的批次运行轨迹和空间的调整方法

摘要

本发明公开了一种基于PLS模型的批次运行轨迹和空间的调整方法。本发明一种基于PLS模型的批次运行轨迹和空间的调整方法，包括：建立间歇过程PLS模型；确定出知识空间；根据PLS模型反演方法，由期望产品质量求取主元变量；由主元变量空间，求出产品设计空间；在产品设计空间内，找出能够使当前时刻以前的参考操作轨迹正好等于(或者最接近)已发生操作轨迹的解；基于该解，得到后续操作轨迹或者操作空间。本发明的有益效果：相比三水平正交实验和响应曲面等方法，该发明完全基于现有的历史数据，能够针对输入变量较多的情况，不需要进行大量的实验，并且得到的参考轨迹为光滑的曲线。

主权项

1.一种基于PLS模型的批次运行轨迹和空间的调整方法，其特征在于，包括：建立间歇过程PLS模型；确定出知识空间；根据期望产品质量求取主元变量；后续参考轨迹的表达方式；在间歇运行过程的采样时刻n，其之前的运行轨迹记为x1∈R1×Mn，n时刻之后的参考轨迹记为x2∈R1×M(N‑n)；由反演得到的主元即可计算出轨迹，如下：其中，D＝[D₁ D₂]＝t_newP^T，x₁为已发生的运行轨迹，而x₂为后续的参考轨迹；因此，有x1＝D1+λTH1  (4)根据上式即可求解出λ，从而得到后续的参考轨迹如下：x2＝D2+λTH2  (5)当式(4)有无穷多个关于λ的解时，后续参考轨迹x2也具有无穷多个解，其调整空间取决于λ；但是，当式(4)无解时，即式(3)无法成立，也就是最终产品质量无法达到期望值，则参考轨迹的调整目标为使得式(4)两端表达式尽可能地小，从而求取λ的最优值，如下：将得到的λ最优值代入到式(5)，即可得到后续的最优参考轨迹。